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硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究

硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究

定　價(jià)：￥35.00

作　者： 杜文漢
出版社： 江蘇大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽： 暫缺
ISBN： 9787568410304 出版時(shí)間： 2018-12-01 包裝：
開本： 頁數(shù)： 字?jǐn)?shù)：  

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