日本專利法研究

定　價：￥78.00

作　者：	李龍著
出版社：	華東理工大學出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787562855576	出版時間：	2018-09-01	包裝：	平裝
開本：	16	頁數(shù)：	240	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　《日本專利法研究》全書共分七章，首章為日本專利法律制度概述，系統(tǒng)地介紹了日本知識產(chǎn)權戰(zhàn)略框架體系以及日本《特許法》《實用新案法》及《意匠法》制度；第二章為日本專利的客體，包括發(fā)明專利的客體、發(fā)明專利的主體以及外觀設計的主體；第三章涉及日本專利的構成要件，系統(tǒng)地介紹了日本發(fā)明專利的構成要件及日本外觀設計的授權；第四章是專利的取得，包括日本發(fā)明專利、實用新型權利的取得等內(nèi)容；第五章為專利復審與復審訴訟，涉及發(fā)明專利及外觀設計的復審與復審訴訟等內(nèi)容；第六章為專利的權利效力，包括發(fā)明專利及外觀設計的權利效力；第七章為對專利侵權的救濟，涉及日本外觀設計侵權的救濟、日本實用新型專利權的行使和侵權救濟等內(nèi)容。本套“知識產(chǎn)權卓越人才培養(yǎng)系列教材”專注于專利制度方向，包括《專利檢索與信息分析實務》《歐洲專利制度研究》《韓國專利法研究》以及《日本專利法研究》。

作者簡介

　　李龍，男，日本神戶大學法學博士，華東理工大學法學院知識產(chǎn)權研究中心講師。主要從事知識產(chǎn)權法、商法、證券法、技術轉(zhuǎn)移等方面的研究。

圖書目錄

緒論001
第一章日本專利法律制度概述004
第一節(jié)日本知識產(chǎn)權戰(zhàn)略框架體系/004
第二節(jié)日本《特許法》《實用新案法》及《意匠法》制度
概述/014
第二章日本專利的客體022
第一節(jié)發(fā)明專利的客體/022
第二節(jié)發(fā)明專利的主體/024
第三節(jié)外觀設計的主體/041
第三章日本專利的構成要件046
第一節(jié)日本發(fā)明專利的構成要件/046
第二節(jié)日本外觀設計的授權/068
第四章專利的取得072
第一節(jié)日本發(fā)明專利的取得/072
第二節(jié)日本實用新型權利的取得/095
第三節(jié)日本外觀設計申請程序/096
第四節(jié)日本專利的檢索/103
第五章專利復審與復審訴訟117
第一節(jié)發(fā)明專利的復審與復審訴訟/117
第二節(jié)外觀設計的復審與復審訴訟/129
第三節(jié)專利復審數(shù)據(jù)平臺/132
第六章專利的權利效力134
第一節(jié)發(fā)明專利的權利效力/134
第二節(jié)外觀設計的權利效力/178
……