二氧化硅低維微：納米材料的制備及其光學性能

1 緒論
1.1 二氧化硅的結構、性質及其應用
1.1.1 二氧化硅的結構與性質
1.1.2 二氧化硅納米材料的應用
1.2 微/納米二氧化硅的制備
1.2.1 制備方法
1.2.2 生長機制
2 實驗設備與測試方法
2.1 實驗設備
2.1.1 高溫管式爐
2.1.2 直聯(lián)旋片式真空泵
2.1.3 超聲波清洗儀
2.1.4 水平電子天平秤
2.2 實驗材料
2.2.1 實驗材料及氣體
2.2.2 襯底預處理
2.3 實驗表征與測試
2.3.1 掃描電子顯微鏡
2.3.2 能譜
2.3.3 透射電子顯微鏡和選區(qū)電子衍射
2.3.4 X射線衍射譜
2.3.5 拉曼光譜
2.3.6 光致發(fā)光光譜
2.3.7 紫外-可見吸收光譜
3 復合結構二氧化硅低維材料的制備及性能
3.1 二氧化硅納米晶體鑲嵌非晶二氧化硅納米線
3.1.1 引言
3.1.2 實驗
3.1.3 結果和討論
3.1.4 小結
3.2 Si納米晶嵌入對二氧化硅納米網(wǎng)狀發(fā)光性能的影響
3.2.1 引言
3.2.2 實驗
3.2.3 結果和討論
3.2.4 小結
3.3 非晶態(tài)二氧化硅包覆的平行超細二氧化硅納米線
3.3.1 引言
3.3.2 實驗
3.3.3 結果和討論
3.3.4 小結
3.4 二氧化硅納米線/納米顆粒復合結構的制備及光致發(fā)光性能研究
3.4.1 引言
3.4.2 實驗
3.4.3 結果和討論
3.4.4 小結
4 熱蒸發(fā)法中實驗參數(shù)的影響
4.1 Pt催化劑對二氧化硅微/納米線材料和光學性質的影響
4.1.1 引言
4.1.2 實驗
4.1.3 結果和討論