光學(xué)非球面鏡可控柔體制造技術(shù)

第1章 非球面光學(xué)研拋技術(shù)
1．1 光學(xué)非球面的優(yōu)點(diǎn)及應(yīng)用
1．1．1 光學(xué)非球面的優(yōu)點(diǎn)
1．1．2 非球面光學(xué)元件在軍用裝備的應(yīng)用
1．1．3 非球面光學(xué)元件在民用裝備的應(yīng)用
1．2 光學(xué)非球面加工的特點(diǎn)
1．2．1 光學(xué)系統(tǒng)對(duì)非球面光學(xué)元件的要求
1．2．2 非球面光學(xué)元件的加工分析
1．3 超光滑表面加工技術(shù)
1．3．1 超光滑表面及應(yīng)用
1．3．2 超光滑表面加工技術(shù)概述
1．3．3 機(jī)械微切削的超光滑表面加工技術(shù)
1．3．4 傳統(tǒng)游離磨料拋光的超光滑表面加工技術(shù)
1．3．5 非接觸超光滑拋光原理和方法
1．3．6 化學(xué)機(jī)械拋光超光滑表面加工方法
1．3．7 磁場(chǎng)效應(yīng)輔助超光滑表面加工技術(shù)
1．3．8 粒子流超光滑表面加工技術(shù)
1．4 非球面光學(xué)研拋技術(shù)
1．4．1 非球面光學(xué)元件的經(jīng)典研拋方法
1．4．2 非球面光學(xué)元件的數(shù)控研拋方法
1．4．3 非球面光學(xué)元件的可控柔體制造技術(shù)
1．5 基于彈性力學(xué)理論的可控柔體制造技術(shù)
1．5．1 基于應(yīng)力變形原理的非球面加工方法
1．5．2 氣囊進(jìn)動(dòng)拋光技術(shù)
1．6 基于多能場(chǎng)的可控柔體制造技術(shù)的關(guān)鍵共性理論
1．6．1 材料去除機(jī)理與數(shù)學(xué)模型
1．6．2 多參數(shù)控制策略
1．6．3 4D數(shù)控技術(shù)
1．6．4 誤差演變理論與控制技術(shù)
1．6．5 可控柔體光學(xué)制造裝備技術(shù)
參考文獻(xiàn)
第2章 非球面光學(xué)研拋基礎(chǔ)理論
2．1 Preston方程及其應(yīng)用
2．2 非球面加工的確定性成形原理
2．3 非球面加工的成形過(guò)程理論分析
2．3．1 非球面加工的成形過(guò)程雙級(jí)數(shù)模型
2．3．2 去除函數(shù)尺寸大小影響
2．3．3 去除函數(shù)擾動(dòng)影響
2．3．4 定位誤差影響
2．3．5 離散間隔影響
2．4 全口徑線性掃描方式面形修正理論
2．4．1 基于Bayesian的迭代算法
2．4．2 脈沖迭代方法
2．4．3 截?cái)嗥娈愔捣纸夥?br />2．5 極軸掃描方式面形修正理論
2．5．1 去除函數(shù)具有回轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)特性
2．5．2 去除函數(shù)不具有回轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)特性
2．6 修形的頻域分析
2．6．1 一般修形條件下的頻譜特征
2．6．2 回轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)型去除函數(shù)的修形能力
2．7 熵最大研拋原理
2．7．1 研拋熵原理表述
2．7．2 最大熵原理在定偏心平面研拋中應(yīng)用的實(shí)例
2．7．3 基于最大熵原理的雙轉(zhuǎn)子小工具加工工藝參數(shù)選擇的實(shí)例
2．7．4 基于熵增原理抑制磁流變修形中、高頻誤差的實(shí)例
參考文獻(xiàn)
附錄A 兩維Hermite級(jí)數(shù)
附錄B 兩維Fouier級(jí)數(shù)
附錄C 駐留時(shí)間雙級(jí)數(shù)模型求解
附錄D 駐留時(shí)間雙級(jí)數(shù)模型求解誤差分析
第3章 基于小研拋盤(pán)工具的CCOS技術(shù)
3．1 基于小研拋盤(pán)工具的CCOS技術(shù)綜述
3．1．1 小工具CCOS技術(shù)進(jìn)展
3．1．2 小工具CCOS技術(shù)的關(guān)鍵問(wèn)題
3．2 AOCMT光學(xué)非球面加工機(jī)床
3．3 去除函數(shù)的建模與分析
3．3．1 理想去除函數(shù)的特性
3．3．2 理論模型
3．3．3 實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ?br />3．3．4 去除函數(shù)的修形能力分析
3．3．5 復(fù)雜形狀研拋盤(pán)去除函數(shù)的建模和特性分析
3．4 CCOS技術(shù)中駐留時(shí)間算法及分析
3．4．1 基于加工時(shí)間的脈沖迭代法
3．4．2 卷積效應(yīng)對(duì)殘留誤差的影響
3．5 邊緣效應(yīng)分析與去除函數(shù)建模
3．5．1 研拋盤(pán)露邊時(shí)的壓力分布
3．5．2 邊緣效應(yīng)下的去除函數(shù)建模
3．6 光學(xué)表面小尺度制造誤差的產(chǎn)生原因與修正方法
3．6．1 小尺度制造誤差的產(chǎn)生原因與評(píng)價(jià)方法
3．6．2 小尺度制造誤差的全口徑均勻拋光修正法
3．6．3 小尺度制造誤差的確定區(qū)域修正法
3．7 大中型非球面研拋加工控制策略及實(shí)驗(yàn)
3．7．1 制造工藝路線和研拋加工控制策略
3．7．2 φ500mm拋物面鏡加工實(shí)驗(yàn)
參考文獻(xiàn)
第4章 離子束拋光技術(shù)
4．1 離子束拋光技術(shù)概述
4．1．1 離子束加工技術(shù)應(yīng)用
4．1．2 離子束拋光的基本原理與特點(diǎn)
4．1．3 離子束拋光技術(shù)的發(fā)展
4．2 離子束拋光的基本理論
4．2．1 離子濺射過(guò)程描述
4．2．2 離子束拋光材料去除率
4．3 離子束拋光去除函數(shù)建模分析
4．3．1 離子束拋光去除函數(shù)理論建模
4．3．2 離子束拋光去除函數(shù)模型特性分析
4．3．3 離子束拋光去除函數(shù)實(shí)驗(yàn)建模
4．4 離子束加工系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析
4．4．1 系統(tǒng)構(gòu)建
4．4．2 系統(tǒng)分析
4．5 離子束拋光面形誤差收斂與精度預(yù)測(cè)
4．6 離子束拋光的小尺度誤差演變
4．6．1 表面粗糙度演變
4．6．2 微觀形貌演變
4．7 離子束拋光實(shí)驗(yàn)
4．7．1 平面修形實(shí)驗(yàn)
4．7．2 曲面修形實(shí)驗(yàn)
參考文獻(xiàn)
第5章 磁流變拋光技術(shù)
5．1 磁流變拋光技術(shù)概述
5．1．1 磁流體的應(yīng)用
5．1．2 磁場(chǎng)效應(yīng)輔助拋光技術(shù)的發(fā)展?fàn)顩r
5．1．3 確定性磁流變拋光技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r
5．2 磁流變拋光材料去除機(jī)理與數(shù)學(xué)模型
5．2．1 磁流變拋光的材料去除機(jī)理
5．2．2 單顆磨粒所受載荷與壓入深度理論計(jì)算
5．2．3 磁流變拋光區(qū)域流體動(dòng)力學(xué)分析與計(jì)算
5．3 磁流變拋光機(jī)床
5．3．1 磁流變拋光機(jī)床結(jié)構(gòu)的基本要求
5．3．2 磁流變拋光實(shí)驗(yàn)樣機(jī)的機(jī)床結(jié)構(gòu)
5．3．3 倒置式磁流變拋光裝置的設(shè)計(jì)
5．3．4 磁流變液的循環(huán)控制系統(tǒng)
5．4 磁流變拋光液及其性能測(cè)試
5．4．1 磁流變拋光液研制的發(fā)展現(xiàn)狀
5．4．2 磁流變液的組成成分及性能評(píng)價(jià)
5．4．3 磁流變液的組成選擇原則
5．4．4 磁流變拋光液配制實(shí)例
5．4．5 磁流變拋光液的性能測(cè)試
5．5 磁流變拋光工藝參數(shù)優(yōu)化
5．5．1 磁流變拋光工藝參數(shù)正交實(shí)驗(yàn)
5．5．2 灰色關(guān)聯(lián)分析
5．5．3 多項(xiàng)工藝指標(biāo)的參數(shù)優(yōu)化
5．5．4 加工過(guò)程綜合優(yōu)化
5．6 磁流變拋光的光學(xué)表面修形技術(shù)及加工實(shí)例
5．6．1 磁流變拋光的光學(xué)表面修形技術(shù)
5．6．2 磁流變拋光駐留時(shí)間求解基本算法
5．6．3 磁流變拋光實(shí)例
5．7 磁射流拋光的光學(xué)表面修形技術(shù)
5．7．1 磨料射流拋光技術(shù)概述
5．7．2 磁射流聚束穩(wěn)定性分析
5．7．3 磁射流拋光去除機(jī)理的CFD分析
5．7．4 磁射流拋光修形實(shí)驗(yàn)
參考文獻(xiàn)
第6章 確定性光學(xué)加工誤差的評(píng)價(jià)方法
6．1 概述
6．2 常用的光學(xué)加工誤差評(píng)價(jià)方法
6．2．1 光學(xué)加工誤差的幾何精度評(píng)價(jià)參數(shù)
6．2．2 基于功率譜密度特征曲線的光學(xué)加工誤差評(píng)價(jià)
6．2．3 基于散射理論的光學(xué)加工誤差評(píng)價(jià)
6．2．4 基于統(tǒng)計(jì)光學(xué)理論的光學(xué)加工誤差評(píng)價(jià)
6．3 光學(xué)加工誤差分布特征的分析方法
6．3．1 光學(xué)表面任意方向加工誤差的評(píng)價(jià)與分析
6．3．2 光學(xué)表面局部誤差的評(píng)價(jià)與分析
6．3．3 工藝方法對(duì)光學(xué)加工誤差的影響分析
6．4 光學(xué)加工誤差的散射性能評(píng)價(jià)方法
6．4．1 光學(xué)加工誤差的二進(jìn)頻帶劃分方法
6．4．2 基于Harvey-Shack散射理論的誤差評(píng)價(jià)方法
6．4．3 光學(xué)加工誤差對(duì)散射性能的影響分析
6．5 基于光學(xué)性能分析的頻帶誤差評(píng)價(jià)方法
6．5．1 不同頻帶誤差對(duì)光學(xué)性能的影響特點(diǎn)
6．5．2 光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用場(chǎng)合對(duì)頻帶誤差的要求
6．5．3 φ200mm拋物面鏡離子束加工誤差的評(píng)價(jià)
參考文獻(xiàn)