石墨烯制備技術(shù)

第1章 石墨烯的機(jī)械剝離技術(shù)
1.1干法機(jī)械剝離
1.1.1膠帶剝離法
1.1.2微機(jī)械加工剝離法
1.1.3球磨法
1.2濕法機(jī)械剝離
1.2.1 超聲剝離法
1.2.2 剪切剝離法
1.2.3 插層剝離法
1.3機(jī)械剝離設(shè)備
參考文獻(xiàn)

第2章 石墨烯的氧化還原技術(shù)
2.1氧化石墨的制備和性質(zhì)
2.1.1石墨的插層-氧化反應(yīng)
2.1.2氧化石墨分散液及其性質(zhì)
2.1.3不同宏觀形態(tài)的氧化石墨烯的制備及性質(zhì)
2.2還原氧化石墨烯的制備和性質(zhì)
2.2.1氧化石墨烯的還原
2.2.2 rGO在溶劑中的分散性質(zhì)
2.2.3不同宏觀形態(tài)的rGO的制備及性質(zhì)

第3章 SiC外延技術(shù)
3.1 SiC襯底及預(yù)處理
3.2 SiC 表面的石墨化
3.2.1 高溫退火
3.2.2 激光誘導(dǎo)
3.2.3 分子束外延
3.3 極性面上的生長(zhǎng)
3.3.1 Si終止面上外延
3.3.2 C終止面上外延
3.4 非極性面上的生長(zhǎng)
3.5 立方SiC/Si上的生長(zhǎng)
3.6 外延生長(zhǎng)設(shè)備
參考文獻(xiàn)
第4章 石墨烯的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.1石墨烯薄膜的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.1.1 基于金屬基底的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.1.2 基于非金屬基底的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.2石墨烯粉體的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.2.1基于金屬模板的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.2.1基于非金屬模板的化學(xué)氣相沉積技術(shù)
4.3石墨烯薄膜的規(guī)模化生長(zhǎng)技術(shù)
4.3.1批次制程
4.3.2卷對(duì)卷制程
4.3.3工業(yè)級(jí)別的制備裝備
參考文獻(xiàn)

第5章 石墨烯的有機(jī)合成技術(shù)
5.1有機(jī)合成基本原理
5.1.1液相合成技術(shù)
5.1.2 表面合成技術(shù)
5.2石墨烯納米帶合成技術(shù)
5.2.1 納米帶終止邊的控制
5.2.2 納米帶尺寸的控制
5.2.3 異質(zhì)摻雜納米帶的合成
5.2.4 納米帶異質(zhì)結(jié)的構(gòu)筑
5.2.5 石墨烯納米帶一維拓?fù)浣^緣體
5.3 石墨烯納米片合成技術(shù)
參考文獻(xiàn)

6 石墨烯的其他制備技術(shù)
6.1 偏析生長(zhǎng)技術(shù)
6.1.1 石墨烯偏析現(xiàn)象的發(fā)現(xiàn)
6.1.2 單晶金屬體系中的偏析生長(zhǎng)技術(shù)
6.1.3 非單晶金屬中的偏析生長(zhǎng)技術(shù)
6.1.4 偏析生長(zhǎng)技術(shù)中石墨烯的摻雜調(diào)控
6.2 電弧放電技術(shù)
6.2.1 電弧放電制備石墨烯基本原理
6.2.2 不同氣氛對(duì)石墨烯制備的影響
6.2.3 催化劑對(duì)石墨烯制備的影響
6.2.4 電弧放電技術(shù)制備石墨烯的裝備
6.3 微波制備技術(shù)
6.3.1 微波作用機(jī)理與制備技術(shù)
6.3.2 微波法無基底氣相合成石墨烯
6.3.3 微波法制備石墨烯的裝備進(jìn)展
6.4 電子束輻照技術(shù)
6.4.1 電子束與物質(zhì)相互作用
6.4.2 電子束誘導(dǎo)無定形碳結(jié)晶化制備石墨烯
6.5 碳納米管切割技術(shù)
6.5.1 液相氧化法
6.5.2 氣相刻蝕法
6.5.3 電化學(xué)剪切法
6.5.4 催化剪切法
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第7章 三維石墨烯的制備技術(shù)
7.1 三維石墨烯材料及其制備方法
7.2組裝法制備泡沫石墨烯
7.2.1 水熱法
7.2.2 還原法
7.2.3 干燥法
7.2.4 離心蒸發(fā)法
7.2.5 犧牲模板法
7.2.6 3D打印法
7.3 合成法制備三維石墨烯
7.3.1 金屬模板法制備泡沫石墨烯
7.3.2 非金屬模板法制備三維石墨烯
7.3.3 無模板法
7.4 小結(jié)
參考文獻(xiàn)
索引