光波導(dǎo)理論基礎(chǔ)（第2版）

目 錄

第1章 電磁場(chǎng)理論 （1）
1．1 麥克斯韋方程 （1）
1．2 電磁場(chǎng)邊界條件 （2）
1．3　單色平面電磁波 （3）
1．4 坡印亭矢量和傳輸功率 （4）
1．5 亥姆霍茲方程 （5）
1．6 平面電磁波的反射和折射 （6）
1．7 光的全反射與倏逝波 （7）
1．8　全反射相移與古斯-漢森位移 （8）
習(xí)題 （10）
第2章 幾何光學(xué) （11）
2．1　程函方程 （11）
2．2 光傳播路徑分析 （12）
2．2．1 光線(xiàn)方程 （12）
2．2．2 光線(xiàn)方程應(yīng)用舉例 （12）
2．3 費(fèi)馬原理 （13）
習(xí)題 （14）
第3章 光波導(dǎo)幾何分析 （15）
3．1　均勻介質(zhì)薄膜波導(dǎo) （15）
3．2　折射率漸變薄膜波導(dǎo)中的光線(xiàn) （16）
3．3　階躍光纖中的光線(xiàn) （17）
3．3．1 子午光線(xiàn) （18）
3．3．2 偏斜光線(xiàn) （19）
3．4　梯度光纖中的光線(xiàn) （20）
3．4．1 柱坐標(biāo)的光線(xiàn)方程 （20）
3．4．2 光線(xiàn)不變量 （21）
3．4．3 光線(xiàn)判據(jù)函數(shù) （21）
3．4．4 光線(xiàn)分析 （22）
3．5 傳播時(shí)延與色散 （24）
3．5．1 均勻介質(zhì)波導(dǎo)的時(shí)延差 （25）
3．5．2 折射率漸變介質(zhì)波導(dǎo)的時(shí)延差 （25）
3．5．3 光纖的色散 （27）
習(xí)題 （28）
第4章 薄膜波導(dǎo)模式理論 （30）
4．1　均勻薄膜波導(dǎo)特征方程 （30）
4．2 薄膜波導(dǎo)電磁場(chǎng)方程 （31）
4．3　TE模分析 （33）
4．4　TM模分析 （35）
4．5　導(dǎo)模特性 （36）
4．5．1 導(dǎo)模截止 （36）
4．5．2 導(dǎo)模定則 （37）
4．5．3 導(dǎo)模數(shù)量 （38）
4．5．4 單模傳輸 （39）
4．5．5 截止波長(zhǎng) （39）
4．5．6 歸一化參量與薄膜波導(dǎo)色散曲線(xiàn) （40）
4．6　導(dǎo)模光強(qiáng)和功率 （41）
4．6．1 導(dǎo)模光強(qiáng) （41）
4．6．2 傳輸功率 （42）
4．7　折射率漸變薄膜波導(dǎo)?WKB法 （43）
4．7．1 場(chǎng)的近似表示式 （43）
4．7．2 轉(zhuǎn)折點(diǎn)附近的近似解 （44）
4．7．3 漸變薄膜波導(dǎo)特征方程 （45）
習(xí)題 （46）
第5章 三維光波導(dǎo) （48）
5．1　三維光波導(dǎo)結(jié)構(gòu) （48）
5．2　馬卡提里近似法 （49）
5．3　場(chǎng)方程與形式解 （50）
5．4　 模特征方程 （51）
5．5　 模特征方程 （53）
5．6 模式特性 （54）
5．6．1 導(dǎo)模條件與模截止 （54）
5．6．2 單模傳輸 （56）
5．6．3 截止波長(zhǎng) （56）
5．6．4 矩形波導(dǎo)色散曲線(xiàn)與模場(chǎng)分布 （57）
5．7 有效折射率法 （58）
5．7．1 矩形波導(dǎo) （58）
5．7．2 脊波導(dǎo) （59）
5．7．3 條載波導(dǎo)及四層平板波導(dǎo) （60）
習(xí)題 （62）
第6章 光纖模式理論 （63）
6．1 光纖的電磁場(chǎng)方程 （63）
6．2 階躍光纖電磁場(chǎng)方程的矢量解法 （65）
6．2．1 芯區(qū)和包層的電磁場(chǎng) （65）
6．2．2 導(dǎo)模特征方程 （68）
6．2．3 導(dǎo)模分類(lèi) （68）
6．2．4 導(dǎo)模截止條件與單模傳輸 （70）
6．2．5 模色散曲線(xiàn) （75）
6．2．6 導(dǎo)模電磁場(chǎng)分布 （76）
6．3 光纖的線(xiàn)偏振模 （79）
6．3．1 場(chǎng)的直角分量與場(chǎng)方程的標(biāo)量解法 （79）
6．3．2 線(xiàn)偏振模及簡(jiǎn)并度 （81）
6．3．3 LPmn模的矢量模組成 （82）
6．3．4 LP模光強(qiáng)和功率 （83）
6．3．5 階躍多模光纖的導(dǎo)模數(shù)量 （86）
6．4 梯度光纖模場(chǎng)分析 （86）
6．4．1 梯度光纖場(chǎng)方程及標(biāo)量解 （87）
6．4．2 傳播常數(shù) （89）
6．4．3 模式群和導(dǎo)模數(shù)量 （90）
習(xí)題 （90）
第7章 電磁場(chǎng)分析的有限元法 （92）
7．1 微分方程邊值問(wèn)題 （92）
7．1．1 邊值問(wèn)題 （92）
7．1．2 Ritz方法 （93）
7．1．3 Galerkin方法 （94）
7．1．4 本征值方程 （95）
7．2　有限元分析 （95）
7．2．1 區(qū)域離散和單元?jiǎng)澐?（96）
7．2．2 線(xiàn)性插值函數(shù)與基函數(shù) （96）
7．2．3 單元方程的擴(kuò)展―全局方程的建立 （97）
7．2．4 二階單元與基函數(shù) （99）
7．3 光波導(dǎo)模式問(wèn)題的應(yīng)用舉例 （99）
7．3．1 單元大小對(duì)計(jì)算結(jié)果的影響 （99）
7．3．2 脊波導(dǎo)模場(chǎng)的有限元計(jì)算 （100）
7．3．3　偽模 （102）
習(xí)題 （102）
第8章 模式耦合理論 （103）
8．1 模式的正交性與完備性 （103）
8．1．1 橫場(chǎng)方程 （103）
8．1．2 模式的正交性及歸一化 （104）
8．1．3 展開(kāi)式的完備性 （106）
8．2　模耦合方程 （106）
8．2．1 理想正規(guī)模式展開(kāi)的模耦合方程 （106）
8．2．2 本地正規(guī)模式展開(kāi)的模耦合方程 （108）
8．3 模耦合方程的微擾解―雙向模耦合 （109）
習(xí)題 （110）
第9章 無(wú)源光器件 （111）
9．1 光纖光柵 （111）
9．1．1　光纖光柵耦合方程 （112）
9．1．2　光纖光柵傳輸特性 （114）
9．1．3　光纖光柵濾波特性 （115）
9．2 平面波導(dǎo)光柵 （117）
9．3 雙波導(dǎo)定向耦合器 （120）
9．4 波分復(fù)用/解復(fù)用器 （122）
9．4．1 角色散型 （123）
9．4．2 干涉型 （125）
9．4．3 F-P腔光濾波型 （127）
9．4．4 陣列波導(dǎo)光柵 （128）
9．5 光開(kāi)關(guān) （129）
9．6 光波導(dǎo)傳感器 （132）
9．6．1 光波導(dǎo)傳感器的特點(diǎn) （132）
9．6．2 典型光波導(dǎo)傳感器結(jié)構(gòu)和原理 （133）
9．7 波導(dǎo)微環(huán)諧振器 （135）
9．7．1 波導(dǎo)微環(huán)諧振器的特點(diǎn) （135）
9．7．2 波導(dǎo)微環(huán)諧振器的基本結(jié)構(gòu)和制備工藝 （135）
9．7．3 波導(dǎo)微環(huán)諧振器的基本原理 （137）
習(xí)題 （140）
第10章 有源光器件 （142）
10．1 光波導(dǎo)放大器 （142）
10．1．1 概述 （142）
10．1．2 鉺離子的光譜特性 （144）
10．1．3 速率方程 （147）
10．1．4 光波傳輸方程 （152）
10．1．5 放大器增益特性 （153）
10．2 光波導(dǎo)調(diào)制器 （157）
10．2．1 光調(diào)制器 （157）
10．2．2 晶體的電光效應(yīng) （157）
10．2．3 光波導(dǎo)調(diào)制器 （159）
習(xí)題 （161）
第11章 光子晶體波導(dǎo) （162）
11．1 光子晶體理論 （162）
11．1．1 光子晶體結(jié)構(gòu)與兩種晶格 （162）
11．1．2 平面波展開(kāi)法 （165）
11．1．3 二維光子晶體帶隙結(jié)構(gòu) （167）
11．2 光子晶體波導(dǎo) （169）
11．2．1 二維光子晶體波導(dǎo) （169）
11．2．2 二維平板光子晶體波導(dǎo) （170）
習(xí)題 （172）
第12章 光波導(dǎo)的制備 （173）
12．1 概述 （173）
12．2 光纖制造 （174）
12．3 薄膜制備 （174）
12．3．1 蒸發(fā)法 （175）
12．3．2 直流磁控濺射法 （175）
12．3．3 中頻、射頻磁控濺射法 （176）
12．3．4 脈沖激光沉積法 （176）
12．3．5 薄膜制備的化學(xué)方法 （177）
12．3．6 薄膜的退火 （178）
12．4 薄膜的表征 （179）
12．4．1 X射線(xiàn)衍射儀 （179）
12．4．2 掃描電鏡 （180）
12．4．3 電子探針 （181）
12．5 三維光波導(dǎo)的制作 （182）
12．5．1 光刻技術(shù) （182）
12．5．2 加工技術(shù) （183）
習(xí)題 （185）
附錄A Bessel函數(shù) （186）
A．1 Bessel方程與Bessel函數(shù) （186）
A．2 各類(lèi)Bessel函數(shù)的漸近展開(kāi)式 （187）
A．3 Bessel函數(shù)的遞推關(guān)系 （187）
附錄B LPmn模特征方程與其組成的矢量模特征方程的等價(jià)性 （189）
附錄C 二維散度定理和自伴算符 （190）
C．1 二維散度定理 （190）
C．2 自伴算符 （190）
參考文獻(xiàn) （191）