等離子體技術(shù)與應(yīng)用實(shí)驗(yàn)教程

第一部分：等離子體基本原理實(shí)驗(yàn)1
實(shí)驗(yàn)一 直流低氣壓放電現(xiàn)象觀察及伏安曲線(xiàn)的測(cè)量1
實(shí)驗(yàn)二 氣體擊穿電壓的測(cè)定及帕邢定律驗(yàn)證10
實(shí)驗(yàn)三 湯森第一電離系數(shù)α及比值α/p的測(cè)定15
實(shí)驗(yàn)四 直流輝光放電等離子體參數(shù)的測(cè)量19
實(shí)驗(yàn)五 射頻等離子體的激發(fā)特性研究25
實(shí)驗(yàn)六 非磁化微波等離子體電子參數(shù)的測(cè)量29
實(shí)驗(yàn)七 ECR微波等離子體離子參數(shù)的測(cè)量33
第二部分:等離子體在材料工程中的應(yīng)用39
實(shí)驗(yàn)八 微波等離子體化學(xué)氣相沉積實(shí)驗(yàn)——形核研究39
實(shí)驗(yàn)九 微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜實(shí)驗(yàn)44
實(shí)驗(yàn)十 直流等離子體濺射制備碳膜實(shí)驗(yàn)49
實(shí)驗(yàn)十一 微波等離子體燒結(jié)氧化鋁陶瓷實(shí)驗(yàn)56
實(shí)驗(yàn)十二 微波等離子體冶金實(shí)驗(yàn)62
實(shí)驗(yàn)十三 常壓微波等離子體引發(fā)聚合實(shí)驗(yàn)67
實(shí)驗(yàn)十四 微波等離子體射流制備納米硅及其熒光特性研究72
實(shí)驗(yàn)十五 直流輝光等離子體表面改性實(shí)驗(yàn)78
實(shí)驗(yàn)十六 等離子體滲氮硬化金屬表面實(shí)驗(yàn)85
實(shí)驗(yàn)十七 微波等離子體化學(xué)氣相沉積法低溫合成碳納米管92
實(shí)驗(yàn)十八 納米TiO2薄膜的微波等離子體改性99
實(shí)驗(yàn)十九 空心微珠表面磁控濺射鍍金屬銅膜104
第三部分:等離子體在微電子中的應(yīng)用113
實(shí)驗(yàn)二十 ECR微波等離子體刻蝕加工實(shí)驗(yàn)113
實(shí)驗(yàn)二十一 微波等離子體CVD制備多晶硅薄膜太陽(yáng)能電池實(shí)驗(yàn)117
實(shí)驗(yàn)二十二 等離子體發(fā)射光譜分析實(shí)驗(yàn)126
實(shí)驗(yàn)二十三 電子束蒸發(fā)鍍膜與薄膜光學(xué)特性分析134
第四部分：等離子體在環(huán)境工程中的應(yīng)用143
實(shí)驗(yàn)二十四 電暈等離子體處理有機(jī)廢水的退色實(shí)驗(yàn)143
實(shí)驗(yàn)二十五 電暈等離子體處理對(duì)有機(jī)廢水化學(xué)需氧量(COD)的影響150
實(shí)驗(yàn)二十六 常壓微波等離子體射流處理有機(jī)工業(yè)廢氣實(shí)驗(yàn)154
實(shí)驗(yàn)二十七 常壓微波等離子體射流處理含硫廢氣實(shí)驗(yàn)158
實(shí)驗(yàn)二十八 低溫射頻等離子體殺菌消毒實(shí)驗(yàn)165