精密光學(xué)元件先進(jìn)測(cè)量與評(píng)價(jià)

定　價(jià)：￥85.00

作　者：	程灝波著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	工業(yè)技術(shù) 機(jī)械/儀表工業(yè) 儀器/儀表

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ISBN：	9787030417176	出版時(shí)間：	2014-09-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	32開(kāi)	頁(yè)數(shù)：	288	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　《精密光學(xué)元件先進(jìn)測(cè)量與評(píng)價(jià)》結(jié)合光學(xué)測(cè)量技術(shù)的最新發(fā)展，針對(duì)目前光學(xué)領(lǐng)域中先進(jìn)光學(xué)測(cè)量技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的探討，主要涉及技術(shù)起源與發(fā)展、原理、優(yōu)缺點(diǎn)、具體的測(cè)量設(shè)備，以及相關(guān)的測(cè)量方法和精度?！毒芄鈱W(xué)元件先進(jìn)測(cè)量與評(píng)價(jià)》分為6章，第1章歸納了光學(xué)元件質(zhì)量表述和評(píng)價(jià)方式，闡述了光學(xué)干涉測(cè)量技術(shù)的基本知識(shí)與原理；第2～5章分別介紹了子孔徑拼接輪廓測(cè)量、接觸式輪廓測(cè)量、結(jié)構(gòu)光輪廓測(cè)量和亞表面損傷檢測(cè)；第6章介紹了其他相關(guān)的光學(xué)測(cè)量方法。

作者簡(jiǎn)介

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圖書(shū)目錄

目錄
前言第 1章緒論 1
1.1概述 1
1.2光學(xué)元件質(zhì)量評(píng)價(jià) 3
1.2.1 表面質(zhì)量評(píng)價(jià) 3
1.2.2 亞表面質(zhì)量評(píng)價(jià) 11
1.3干涉測(cè)量基礎(chǔ)知識(shí) 14
1.3.1 干涉原理 14
1.3.2 典型干涉測(cè)量結(jié)構(gòu) 17
第 2章子孔徑拼接輪廓測(cè)量 22
2.1概述 22
2.2圓形子孔徑拼接 26
2.2.1 拼接原理 26
2.2.2 拼接算法 27
2.3環(huán)形子孔徑拼接 29
2.3.1 孔徑劃分 29
2.3.2 拼接原理 32
2.3.3 拼接算法 33
2.4廣義子孔徑拼接 38
2.4.1 廣義環(huán)形子孔徑拼接算法 38
2.4.2 計(jì)算機(jī)模擬 42
2.5子孔徑拼接優(yōu)化算法 44
2.5.1 調(diào)整誤差分量及其波像差 44
2.5.2 環(huán)形子孔徑拼接優(yōu)化模型 47
2.5.3 仿真研究 49
2.6測(cè)量系統(tǒng) 55
2.6.1 SSI-300子孔徑檢測(cè)平臺(tái) 56
2.6.2 實(shí)驗(yàn)研究 61
2.7超大口徑拼接檢測(cè) 67
2.7.1 方案設(shè)計(jì) 67
2.7.2 拼接算法 74
2.8小結(jié) 77
參考文獻(xiàn) 77
第 3章接觸式輪廓測(cè)量 82
3.1概述 82
3.2測(cè)量理論基礎(chǔ) 82
3.2.1 測(cè)量原理 82
3.2.2 坐標(biāo)系和坐標(biāo)變換 88
3.2.3 檢測(cè)路徑 91
3.2.4 二次曲面系數(shù)研究 94
3.2.5 離軸鏡測(cè)量模型 95
3.3測(cè)量系統(tǒng) 98
3.3.1 測(cè)頭系統(tǒng) 98
3.3.2 系統(tǒng)設(shè)計(jì) 109
3.4誤差分析 115
3.4.1 誤差源分類 115
3.4.2 固有誤差 117
3.4.3 隨機(jī)調(diào)整誤差 120
3.4.4 接觸力誘導(dǎo)誤差 130
3.4.5 高階像差誤差分析 131
3.5小結(jié) 133
參考文獻(xiàn) 133
第 4章結(jié)構(gòu)光輪廓測(cè)量 137
4.1概述 137
4.2基于結(jié)構(gòu)光原理的測(cè)量方法 139
4.2.1 傅里葉變換輪廓術(shù) 139
4.2.2 相位測(cè)量輪廓術(shù) 144
4.2.3 莫爾測(cè)量輪廓術(shù) 151
4.2.4 卷積解調(diào)法 152
4.2.5 調(diào)制度測(cè)量輪廓術(shù) 153
4.3測(cè)量系統(tǒng)及其標(biāo)定 155
4.3.1 結(jié)構(gòu)光三維測(cè)量系統(tǒng) 155
4.3.2 系統(tǒng)參數(shù)標(biāo)定 156
4.3.3 快速標(biāo)定方法 162
4.4位相展開(kāi)算法 165
4.4.1 位相展開(kāi)的基本原理 165
4.4.2 空間位相展開(kāi)方法 167
4.4.3 時(shí)間位相展開(kāi)方法 173
4.4.4 光柵圖像采集與預(yù)處理 173
4.5測(cè)量誤差分析 176
4.5.1 光柵圖像非正弦化過(guò)程與誤差分析 176
4.5.2 非線性誤差矯正方法 178
4.6小結(jié) 187
參考文獻(xiàn) 187
第 5章亞表面損傷檢測(cè) 190
5.1概述 190
5.2亞表面損傷產(chǎn)生機(jī)理與表征 193
5.2.1 產(chǎn)生機(jī)理 193
5.2.2 表征方法 199
5.3亞表面損傷檢測(cè)技術(shù) 201
5.3.1 破壞性檢測(cè) 201
5.3.2 非破壞性檢測(cè) 203
5.4工藝試驗(yàn) 207
5.4.1 亞表面損傷的測(cè)量 207
5.4.2 亞表面損傷和工藝參數(shù)的關(guān)聯(lián) 212
5.4.3 損傷抑制策略 217
5.5小結(jié) 218
參考文獻(xiàn) 218
第 6章其他測(cè)量技術(shù) 222
6.1移相干涉測(cè)量技術(shù) 222
6.2動(dòng)態(tài)干涉測(cè)量技術(shù) 228
6.3剪切干涉 234
6.4點(diǎn)衍射干涉 240
6.5白光干涉測(cè)量技術(shù) 241
6.6外差干涉測(cè)量技術(shù) 246
6.7補(bǔ)償法檢測(cè)非球面 248
6.8計(jì)算全息法檢測(cè)非球面 256
參考文獻(xiàn) 272