材料的激光表面改性技術(shù)及應(yīng)用

第1章　激光加工概述
1.1　激光產(chǎn)生的物理基礎(chǔ)
1.1.1　激光的發(fā)展簡(jiǎn)史
1.1.2　產(chǎn)生激光的典型能級(jí)結(jié)構(gòu)
1.1.3　原子能級(jí)及粒子數(shù)分布
1.1.4　原子能級(jí)躍遷
1.1.5　激光產(chǎn)生機(jī)理
1.1.6　激光器基本結(jié)構(gòu)
1.2　激光的特性
1.2.1　單色性好
1.2.2　高方向性
1.2.3　高相干性
1.2.4　高亮度
1.3　激光與材料的相互作用
1.3.1　簡(jiǎn)介
1.3.2　激光的吸收過程
1.3.3　激光的熱效應(yīng)
1.3.4　等離子體產(chǎn)生過程
1.3.5　激光燒蝕過程

第2章　激光表面改性技術(shù)簡(jiǎn)介
2.1　概述
2.2　激光表面處理技術(shù)分類及特點(diǎn)
2.2.1　激光相變硬化
2.2.2　激光沖擊硬化
2.2.3　激光熔覆
2.2.4　激光表面合金化
2.2.5　其他激光表面改性技術(shù)簡(jiǎn)介
2.3　激光表面改性設(shè)備
2.3.1　激光器系統(tǒng)
2.3.2　光路及導(dǎo)光系統(tǒng)
2.3.3　激光加工數(shù)控系統(tǒng)
2.4　激光表面改性存在的問題及展望

第3章　激光氣體氮化（LGN）技術(shù)與應(yīng)用
3.1　硅表面激光氣體氮化工藝及特性
3.1.1　實(shí)驗(yàn)材料及設(shè)備
3.1.2　激光工藝參數(shù)的確定及工藝
3.1.3　激光氮化處理后樣品的表面物相組成
3.1.4　激光與半導(dǎo)體材料相互作用與氮化成膜機(jī)理
3.2　鐵表面激光氣體氮化
3.2.1　激光氣體氮化工藝參數(shù)的確定
3.2.2　激光氮化樣品表面物相分析
3.2.3　鐵氮化合物熱穩(wěn)定性及相結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變

第4章　高磁感取向硅鋼微區(qū)激光氣體氮化
4.1　取向硅鋼簡(jiǎn)介
4.1.1　高磁感取向硅鋼的發(fā)展趨勢(shì)
4.1.2　改善磁疇分布及提高取向硅鋼鐵損方法簡(jiǎn)介
4.2　改進(jìn)型Fe304磁流體的研制
4.2.1　Fe304磁流體的配置
4.2.2　Fe304磁流體性能影響因素
4.3　取向硅鋼片激光掃描間距的理論計(jì)算.
4.3.1　實(shí)驗(yàn)材料及計(jì)算方法
4.3.2　平均晶粒尺度的計(jì)算
4.4　最佳晶粒尺度、氮化掃描間距及特性曲線的確立
4.4.1　計(jì)算原理及方法簡(jiǎn)介
4.4.2　最佳晶粒尺度計(jì)算
4.4.3　激光氣體氮化掃描間距的確立
4.4.4　取向硅鋼特性曲線的確立
4.5　激光氣體氮化對(duì)取向硅鋼性能的影響
4.5.1　激光氮化機(jī)制及工藝確定
4.5.2　微區(qū)激光氣體氮化成分標(biāo)定
4.5.3　微區(qū)激光氣體氮化對(duì)取向硅鋼磁疇結(jié)構(gòu)分布的影響
4.5.4　微區(qū)激光氣體氮化對(duì)取向硅鋼時(shí)效性能的改善.
4.5.5　激光刻痕和激光氣體氮化對(duì)降低硅鋼片鐵損的影響-

第5章　硅鋼激光輔助滲硅技術(shù)
5.1　硅鋼及高硅鋼制備工藝簡(jiǎn)介
5.1.1　硅鋼的分類和發(fā)展
5.1.2　鐵硅合金特性
5.1.3　高硅鋼特性
5.1.4　高硅鋼制備工藝
5.1.5　激光熔覆工藝
5.2　單道激光熔覆涂層的制備技術(shù)
5.2.1　單道激光熔覆涂層制備
5.2.2　單道激光熔覆工藝探索與優(yōu)化
5.2.3　影響激光熔覆涂層質(zhì)量的因素
5.2.4　熔覆涂層組織與凝固行為分析
5.2.5　熔覆涂層硅含量測(cè)定及硬度分布
5.3　多道搭接激光熔覆涂層的制備技術(shù)
5.3.1　多道搭接激光熔覆涂層制備
5.3.2　影響激光熔覆涂層質(zhì)量的因素
5.3.3　激光熔覆涂層中存在的缺陷
5.3.4　熔覆涂層顯微組織分析
5.3.5　熔覆涂層凝固行為分析
5.3.6　熔覆涂層微結(jié)構(gòu)分析
5.3.7　熔覆涂層硅含量測(cè)定及硬度分布
5.4　退火處理激光熔覆高硅涂層磁性能研究
5.4.1　鐵磁性物質(zhì)磁飽和及磁滯現(xiàn)象
5.4.2　熔覆樣品擴(kuò)散退火與表面相組成
5.4.3　熔覆退火樣品硬度與硅含量分布
5.4.4　熔覆退火樣品的室溫磁性能

第6章　工業(yè)鈦合金激光表面改性技術(shù)
6.1　工業(yè)鈦合金簡(jiǎn)介
6.2　激光氮化改性技術(shù)研究
6.2.1　簡(jiǎn)介
6.2.2　實(shí)驗(yàn)材料及設(shè)備
6.2.3　激光氮化工藝確定
6.2.4　氮化處理后表面物相及顯微硬度分布
6.2.5　激光氮化樣品顯微硬度分布
6.2.6　氮化機(jī)制及合金成分對(duì)氮化影響
6.3　激光熔覆制備耐磨涂層技術(shù)
6.3.1　激光熔覆技術(shù)簡(jiǎn)介
6.3.2　鈦合金表面激光熔覆技術(shù)研究進(jìn)展
6.3.3　激光熔覆TiCN／Ti陶瓷涂層工藝
6.3.4　激光熔覆參數(shù)確定及熔覆層物相、組織結(jié)構(gòu)
6.3.5　熔覆層力學(xué)性能
6.4　激光誘導(dǎo)原位自生耐磨涂層技術(shù)
6.4.1　實(shí)驗(yàn)材料及設(shè)備方法
6.4.2　原位自生熱力學(xué)判據(jù)及工藝確定：
6.4.3　原位自生涂層的物相標(biāo)定、顯微結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能

第7章　醫(yī)用鈦合金表面激光熔覆改性
7.1　醫(yī)用鈦合金表面改性簡(jiǎn)介
7.2　激光熔覆HA／Si（）2生物涂層
7.2.1　Si-HA涂層簡(jiǎn)介
7.2.2　實(shí)驗(yàn)材料及熔覆工藝確定
7.2.3　熔覆層表面形貌及物相標(biāo)定
7.2.4　HA／Si（）2生物涂層的潤(rùn)濕性
7.2.5　HA／Si（）2生物涂層的體外活性
7.3　激光熔覆合成’FiCN／Ti3Si（：2復(fù)合生物涂層技術(shù)
7.3.1　原理及方法簡(jiǎn)介
7.3.2　實(shí)驗(yàn)過程及方法
7.3.3　掃描速度對(duì)熔覆層物相、組織結(jié)構(gòu)及硬度影響
7.3.4　離焦量對(duì)熔覆層物相、顯微結(jié)構(gòu)及硬度影響
7.3.5　熔覆層顯微結(jié)構(gòu)及微區(qū)成分分析
7.4　TICNN／SiO 2生物涂層潤(rùn)濕性及體外活性
7.4.1　引言
7.4.2　實(shí)驗(yàn)設(shè)備
7.4.3　實(shí)驗(yàn)過程及方法
7.4.4　潤(rùn)濕性結(jié)果
7.4.5　SBF溶液浸泡后表面物相分析
7.4.6　SBF浸泡中離子沉積速率
7.4.7　SBF浸泡后沉積層表面形貌及微區(qū)成分分析
參考文獻(xiàn)