光學(xué)中的散斑現(xiàn)象：理論與應(yīng)用

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序
第1章 散斑的起源和表現(xiàn)
1.1 一般背景
1.2 散斑起因的直觀解釋
1.3 一些數(shù)學(xué)預(yù)備知識
第2章 隨機相幅矢量和
2.1 相幅矢量和的實部和虛部的一階矩和二階矩
2.2 有大量獨立步數(shù)的隨機行走
2.3 隨機相幅矢量和加上一個已知相幅矢量
2.4 隨機相幅矢量和之和
2.5 有限個等長度分量的隨機相幅矢量和
2.6 相位非均勻分布的隨機相幅矢量和
第3章 光學(xué)散斑的一階統(tǒng)計性質(zhì)
3.1 強度的定義
3.2 強度和相位的一階統(tǒng)計
3.2.1 大量的隨機相幅矢量
3.2.2 常相幅矢量加上一個隨機相幅矢量和
3.2.3 有限數(shù)目的等長相幅矢量
3.3 散斑圖樣的和
3.3.1 在振幅基礎(chǔ)上求和
3.3.2 兩個獨立散斑強度的和
3.3.3 N個獨立散斑強度的和
3.3.4 相關(guān)散斑強度的和
3.4 部分偏振散斑
3.5 部分散射散斑
3.6 散斑驅(qū)動的散斑或復(fù)合散斑的統(tǒng)計
3.6.1 負指數(shù)強度分布驅(qū)動的散斑
3.6.2 T強度分布驅(qū)動的散斑
3.6.3 T強度分布驅(qū)動的獨立散斑圖樣之和
第4章 散斑的高階統(tǒng)計性質(zhì)
4.1 多元高斯統(tǒng)計
4.2 對散斑場的應(yīng)用
4.3 散斑振幅、相位和強度的多維統(tǒng)計
4.3.1 振幅的聯(lián)合密度函數(shù)
4.3.2 相位聯(lián)合密度函數(shù)
4.3.3 強度的聯(lián)合密度函數(shù)
4.4 散斑的自相關(guān)函數(shù)和功率譜
4.4.1 自由空間傳播光路
4.4.2 成像光路
4.4.3 深度方向上的散斑尺寸
4.5 散斑對散射體微結(jié)構(gòu)的依賴關(guān)系
4.5.1 面散射與體散射的對比
4.5.2 散射波的相關(guān)面積為有限的效應(yīng)
4.5.3 一種散斑大小與散射光斑大小無關(guān)的機制
4.5.4 散射波的相關(guān)面積和表面高度漲落的關(guān)系——表面散射
4.5.5 散斑對比度對表面粗糙度的依賴關(guān)系——面散射
4.5.6 體散射產(chǎn)生的散斑的性質(zhì)
4.6 積分和模糊的散斑的統(tǒng)計學(xué)
4.6.1 積分散斑的平均值和方差
4.6.2 積分強度概率密度函數(shù)的近似結(jié)果
4.6.3 積分強度的概率密度函數(shù)的“準(zhǔn)確”結(jié)果
4.6.4 部分偏振散斑圖樣的積分
4.7 散斑強度和相位的微商的統(tǒng)計性質(zhì)
4.7.1 背景
4.7.2 各種散射光斑形狀下的參數(shù)
4.7.3 散斑相位的微商：散斑圖樣中的光線方向
4.7.4 散斑強度的微商
4.7.5 散斑圖樣的亮階交叉
4.8 散斑圖樣的零點：光學(xué)渦旋
4.8.1 零強度出現(xiàn)所要求的條件
4.8.2 在強度零點附近散斑相位的性質(zhì)
4.8.3 完全散射的散斑中的渦旋密度
4.8.4 完全散射的散斑加上一個相干背景后的渦旋密度
第5章 抑制散斑的光學(xué)方法
5.1 偏振的多樣化
5.2 用運動漫射體進行時間平均
5.2.1 背景
5.2.2 光滑的物
5.2.3 粗糙的物
5.3 波長和角度的多樣化
5.3.1 自由空間傳播，反射光路
5.3.2 自由空間傳播，透射光路
5.3.3 成像光路
5.4 減弱時間和空間相干性
5.4.1 光學(xué)中的相干性概念
5.4.2 運動的漫射體和相干性的減弱
5.4.3 通過減弱時間相干性抑制散斑
5.4.4 通過減弱空間相干性抑制散斑
5.5 用時間相干性破壞空間相干性
5.6 復(fù)合散斑抑制技術(shù)
第6章 某些成像應(yīng)用中的散斑
6.1 眼睛中的散斑
6.2 全息術(shù)中的散斑
6.2.1 全息術(shù)的原理
6.2.2 全息像中的散斑抑制
6.3 光學(xué)相干層析術(shù)中的散斑
6.3.1 OCT成像技術(shù)簡介
6.3.2 OCT的分析
6.3.3 0CT中的散斑和散斑抑制
6.4 光學(xué)投影顯示中的散斑
6.4.1 投影顯示的剖析
6.4.2 投影顯示中的散斑抑制
6.4.3 偏振多樣性
6.4.4 運動屏幕
6.4.5 波長多樣性
6.4.6 角度多樣性
6.4.7 投影光學(xué)系統(tǒng)的留有余量的設(shè)計
6.4.8 將變化的漫射體投影到屏幕上
6.4.9 專門設(shè)計的屏幕
6.5 投影微光刻中的散斑
6.5.1 準(zhǔn)分子激光的相干性質(zhì)
6.5.2 時域散斑
6.5.3 從曝光漲落到線位置的漲落
第7章 某些非成像應(yīng)用中的散斑
7.1 多模光纖中的散斑
7.1.1 光纖中的模式噪聲
7.1.2 限定散斑的統(tǒng)計性質(zhì)
7.1.3 模式噪聲對頻率的依賴關(guān)系
7.2 散斑對光學(xué)雷達性能的影響
7.2.1 從遠程目標(biāo)返回的散斑場的空間相關(guān)性
7.2.2 低光照水平下的散斑
7.2.3 探測統(tǒng)計分布——直接探測
7.2.4 探測統(tǒng)計分布——外差探測
7.2.5 直接探測與外差探測的比較
7.2.6 降低光學(xué)雷達探測系統(tǒng)中散斑的影響
第8章 散斑與計量學(xué)
8.1 散斑照相術(shù)
8.1.1 面內(nèi)位移
8.1.2 仿真
8.1.3 譜五(vx，vy)的性質(zhì)
8.1.4 對移動量(x0，y0)的限制
8.1.5 多散斑圖窗口分析
8.1.6 物體轉(zhuǎn)動
8.2 散斑干涉術(shù)
8.2.1 使用照相探測的系統(tǒng)
8.2.2 電子散斑干涉術(shù)(ESPI)
8.2.3 剪切散斑干涉術(shù)
8.3 從條紋圖樣到相位分布圖
8.3.1 傅里葉變換法
8.3.2 相移散斑干涉術(shù)
8.3.3 相位展開
8.4 用散斑測量振動
8.5 散斑與表面粗糙度的測量
8.5.1 由散斑對比度得到表面高度的均方差值和表面協(xié)方差面積
8.5.2 由兩個波長的退相關(guān)得到表面高度的均方差
8.5.3 由兩個角度的退相關(guān)得到表面高度的均方差
8.5.4 由測量角功率譜得到表面高度標(biāo)準(zhǔn)偏差和協(xié)方差函數(shù)
第9章 通過大氣成像中的散斑
9.1 背景
9.1.1 大氣中折射率的漲落
9.2 短曝光和長曝光的點擴展函數(shù)
9.3 長曝光和短曝光的平均光學(xué)傳遞函數(shù)
9.4 短曝光OTF和MTF的統(tǒng)計性質(zhì)
9.5 天文散斑干涉測量術(shù)
9.5.1 可恢復(fù)的物信息
9.5.2 對散斑傳遞函數(shù)形式的更完整的分析結(jié)果
9.6 交叉譜或Knox-Thompson技術(shù)
9.6.1 交叉頻譜傳遞函數(shù)
9.6.2 從交叉譜恢復(fù)全部物信息
9.7 雙頻頻譜(Bispectrum)技術(shù)
9.7.1 雙頻頻譜傳遞函數(shù)
9.7.2 從雙頻頻譜恢復(fù)完全的物信息
9.8 散斑相關(guān)成像術(shù)
附錄A 散斑場的線性變換
附錄B 部分散射散斑的對比度
附錄C 得出強度和相位微商的統(tǒng)計性質(zhì)的計算
C.1 相關(guān)矩陣
C.2 相位微商的聯(lián)合密度函數(shù)
C.3 強度微商的聯(lián)合密度函數(shù)
附錄D 散斑對波長及角度依賴關(guān)系的分析
D.1 自由空間光路
D.2 成像光路
附錄E 當(dāng)動態(tài)漫射體投影到隨機屏上時的散斑對比度
E.1 隨機相位漫射體
E.2 漫射體剛好充滿投影光學(xué)系統(tǒng)
E.3 漫射體充溢投影光學(xué)系統(tǒng)
附錄F 限定散斑的統(tǒng)計
附錄G 模擬散斑的Mathe瑚tica程序范例
G.1 自由空間傳播中的散斑模擬
G.2 成像光路中的散斑模擬
參考文獻
漢英對照索引