第一章 真空技術基礎
第一節(jié) 真空的基本知識
第二節(jié) 真空的獲得
第三節(jié) 真空的測量
第二章 薄膜制備的化學方法
第一節(jié) 熱生長
第二節(jié) 化學氣相沉積
第三節(jié) 電鍍
第四節(jié) 化學鍍
第五節(jié) 陽極反應沉積法
第六節(jié) LB技術
第三章 薄膜制備的物理方法
第一節(jié) 真空蒸發(fā)
第二節(jié) 濺射
第三節(jié) 離子束和離子助
第四節(jié) 處延膜沉積技術
第四章 薄膜的形成與生長
第一節(jié) 形核
第二節(jié) 生長過程
第三節(jié) 薄膜的生長模式
第四節(jié) 遠離平衡態(tài)薄膜生長的研究
第五章 薄膜表征
第一節(jié) 薄膜厚度控制及測量
第二節(jié) 組分表征
第三節(jié) 薄膜的結構表征
第四節(jié) 原子化學鍵合表征
第五節(jié) 薄膜應力表征
第六章 薄膜材料
第一節(jié) 超硬薄膜材料
第二節(jié) 智能薄膜材料
第三節(jié) 納米薄膜材料
第四節(jié) 三族元素氮化物(Ⅲ-N)薄膜材料
第五節(jié) 磁性氮化鐵薄膜材料
第六節(jié) 巨磁阻錳氧化物薄膜材料