高分子表面的基礎(chǔ)和應(yīng)用

　　本書(shū)從幾個(gè)主要應(yīng)用領(lǐng)域結(jié)合學(xué)科特點(diǎn)和高技術(shù)發(fā)展的需要，提出了應(yīng)建立和發(fā)展的應(yīng)用基礎(chǔ)理論和研究方法，匯集了至1985年為止日本國(guó)內(nèi)外最新的研究和應(yīng)用成果，以及急待開(kāi)發(fā)的新課題。

暫缺《高分子表面的基礎(chǔ)和應(yīng)用》作者簡(jiǎn)介