工業(yè)激光技術

概述
上篇諧振腔技術
第1章M參數與光束質量
1.1M2參數定義
1.2二階矩定義的光束參量傳輸變換理論
1.2.1D0和θ通過薄透鏡的變換
1.2.2與基模高斯光束的比較
1.2.3普遍的薄透鏡ABCD法則
1.2.4諧振腔中的諧振光束
1.2.5結論
1.3二階矩定義下的廣義ABC0法則
1.4各種典型實際光束的M2參數特性比較
1.4.1基模高斯光束具有M2參數的最小值
1.4.2M2參數的物理含義
1.4.3各種典型的實際高功率激光束的M2參數
1.5二階矩定義的光束參量變換理論及其推廣的設想
參考文獻
籌2章微變形腔鏡及晶體窗口
2.1激光腔內光學元件熱變形理論模型
2.1.1激光作用下腔鏡的傳熱模型
2.1.2激光作用下鏡片的熱變形
2.1.3晶體窗口的傳熱分析
2.1.4腔內光學元件熱變形對激光光束質量的影響
2.2腔內光學元件熱變形數值模擬
2.2.1有限差分法
2.2.2有限元方法
2.3腔鏡變形的實驗研究
2.3.1激光作用下水冷銅鏡的變形
2.3.2激光作用下硅鏡的熱變形
2.3.3相變致冷窗口的熱變形
2.4微變形腔鏡與窗口
2.4.1激光超薄多層鏡
2.4.2相變致冷強激光窗口
參考文獻
第3章氣動窗口
3.1引言
3.2引射加抽氣聯合式氣動窗口的工作原理
3.2.1抽氣節(jié)流式氣動窗口的工作原理
3.2.2引射式氣動窗口的工作原理
3.3引射式氣動窗口的氣動性能
3.3.1引射式氣動窗口的氣體質量流量
3.3.2引射噴管出口截面馬赫數M.
3.3.3引射式氣動窗口的密封壓力比
3.3.4計算結果及分析
3.3.5計算結果和實驗結果的比較
3.4引射加抽氣聯合式氣動窗口的工作性能
3.4.1聯合式氣動窗口的密封性能
3.4.2聯合式氣動窗口的光束質量
3.5小結
參考文獻
第4章相位共軛鏡
4.1引言
4.2相位共軛原理
4.3受激布里淵散射理論
4.4相位共軛鏡
4.5具有光纖相位共軛鏡的振蕩／放大(MOPA)系統
4.6光纖相位共軛鏡的保真度和反射率
參考文獻
第5章高斯鏡諧振腔
5.1引言
5.2帶熱透鏡的高斯鏡諧振腔的光腔特性
及動態(tài)穩(wěn)定性
5.2.1光學矩陣分析
5.2.2光學特性參量
5.2.3動態(tài)穩(wěn)定性
5.3帶增益分布的高斯鏡諧振腔
5.3.1不均勻增益分布及增益飽和
5.3.2衍射積分模型
5.3.3衍射積分計算及其分析
5.4帶高斯鏡諧振腔的高功率固體激光器
5.4.1高斯鏡諧振腔和參數設計
5.4.2帶高斯鏡諧振腔固體激光器
5.4.3實驗結果及討論
參考文獻
中篇激光器
第6章高頻激勵CO：激光器
6.1引言
6.2高頻放電等離子體理論
6.3介質電極的高頻放電
6.4阻抗匹配網絡
6.5高頻激勵CO激光器結構和輸出特性
參考文獻
第7章擴散冷卻CO激光器
7.1面積放大與射頻放電激勵技術
7.1.1面積放大概念
7.1.2射頻放電激勵技術
7.2平板波導型擴散冷卻CO激光器
7.2.1平板波導內場分布和傳播常數
7.2.2平板波導諧振腔的耦合損失
7.2.3平行平面腔的模式特征
7.2.4非穩(wěn)波導混合腔
7.2.5千瓦級輸出功率平板波導CO激光器
7.2.6高頻開關電源激勵的擴散冷卻CO激光器
7.3同軸結構擴散冷卻CO激光器
7.3.1射頻功率傳輸中的阻抗匹配
7.3.2復曲面鏡傾斜非穩(wěn)諧振腔
7.3.3螺旋型反射鏡構成的混合腔
7.3.4螺旋角向非穩(wěn)腔的幾何光學分析
7.4波導陣列結構
7.4.1一維波導陣列結構
7.4.2二維波導陣列結構
7.4.3平板波導陣列結構
參考文獻
第8章磁約束放電高氣壓氣體激光器
8.1引言
8.2磁約束放電條件下的玻耳茲曼方程
8.3高氣壓氣體在電磁場作用下電子的運動及其傳輸系數
8.4高氣壓氣體在磁場作用下的旋轉流動
8.5磁約束放電激勵的XeCl準分子激光器
8.6磁約束電激勵TEA-CO激光器
參考文獻
第9章大功率半導體激光器
9.1引言
9.2量子阱半導體激光器
9.3表面發(fā)射激光器
9.4大功率半導體激光器
9.5半導體激光器在應用中的光學耦合系統
9.6半導體激光器的驅動電源
參考文獻
第10章二極管泵浦的固體激光器
10.1引言
10.2基本特點
10.2.1基本結構
10.2.2二極管泵浦源的基本光學特性
10.2.3激活介質的尺寸
10.3二極管端面泵浦的固體激光器
10.3.1泵浦光的耦合
10.3.2二極管端面泵浦激光器的特性
10.4二極管側面泵浦的固體激光器
參考文獻
下篇脈沖激光沉積薄膜技術
第11章脈沖激光沉積薄膜技術原理
11.1引言
11.2激光與固體的作用及所產生的等離子體
11.2.1激光與固體的作用
11.2.2激光與固體作用產生的等離子體
11.3脈沖激光沉積薄膜技術
11.3.1脈沖激光沉積薄膜系統及制備
11.3.2脈沖激光沉積薄膜技術的新發(fā)展
參考文獻
第12章激光沉積超導薄膜技術
12.1引言
12.2在金屬基片上激光沉積高溫超導薄膜
12.2.1激光沉積系統
12.2.2金屬基片的制備
12.2.3金屬基片上激光沉積YSZ／YBCO超導薄膜(無離子源輔助)
12.2.4金屬基片上激光沉積YSZ／YBCO超導薄膜(有離子源輔助)
12.2.5離子束輔助沉積取向薄膜的物理機理
12.2.6不銹鋼基底上激光輔助沉積YSZ薄膜
12.3超導薄膜微觀結構的觀察及分析
12.3.1單晶基片上的超導薄膜的微觀結構觀察
12.3.2金屬基片上的超導薄膜的微觀結構觀察
12.3.3超導薄膜生長結構的討論
12.3.4超導薄膜的微觀結構對臨界電流密度的影響
參考文獻
第13章激光掃描沉積大面積均勻薄膜技術
13.1引言
13.2激光掃描淀積基本原理
13.3激光圓掃描剝離沉積大面積薄膜系統
13.4激光復合掃描剝離時的膜厚分布
參考文獻
第14章脈沖激光沉積法制備非晶金剛石薄膜技術
14.1概述
14.2脈沖激光蒸發(fā)石墨靶產生的碳等離子體的診斷
14.3脈沖激光積法制備非晶金剛石薄膜技術
14.4非晶金剛石薄膜的表征
參考文獻